| 对比项 |
Journal of Micro-Nanopatterning Materials and Metrology-JM3
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| 分区 |
4 区
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| 大类学科 |
工程技术 |
| 影响因子 |
2.3
（2025 年）
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| Top / 综述 / OA |
—
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| 预警 / 风险 |
无
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| 版面费 |
—
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| 一审天数 |
— |
| 投稿到录用 |
— |
| 录用比例 |
— |
| 出版商 |
SPIE |
| 出版国家 |
United States |
| 小类学科 |
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 / MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学：综合 / NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 / OPTICS 光学 |
| ISSN |
1932-5150 |
| 投稿入口 |
—
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| 投稿经验 |
看经验 |
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