Applied Physics Express

APPL PHYS EXPRESS · ISSN 1882-0778 · EISSN 1882-0786 · 收录年度 2018–2026 · 共 8 年
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分区口径 最新（中科院 2025 + 新锐 2026 + JCR 2026） 2025 年中科院 2023 年中科院 2022 年中科院 2021 年中科院（升级版） 2020 年中科院（升级版） 2019 年中科院（升级版） 2018 年中科院（基础版）

分区结论

口径：中科院分区 · 2022 年 —— 2025 年及以前只有这一套分区表，因此这里只显示对应年度。 想看当前口径请看 最新分区。
3 区
大类学科：物理与天体物理
加入对比

投稿信息

投稿入口、版面费、审稿周期等信息来自公开渠道与期刊官网，仅供参考，请以期刊官方发布为准。
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版面费 USD 2485 （≈ $2485）
原始值：1985 GBP; 2205 EUR; 2485 USD
减免：无豁免政策
没有其他费用
是否 OA 是（完全开放获取）
审稿周期 一审约 30 天 · 投稿到录用约 42 天 · 投稿到出版约 6 周
平均 6 周（投稿到出版）
录用比例 —
出版商 Institute of Physics
出版国家 / 语言 United Kingdom / English
主题词：GaN-based semiconductor devices and materials; Semiconductor materials and devices; ZnO doping and properties; Ga2O3 and related materials; Semiconductor Quantum Structures and Devices; Photonic and Optical Devices; Magnetic properties of thin films; Advanced Fiber Laser Technologies; Quantum and electron transport phenomena; Graphene research and applications; Nanowire Synthesis and Applications; Thin-Film Transistor Technologies; Metamaterials and Metasurfaces Applications; Plasmonic and Surface Plasmon Research; Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design; Metal and Thin Film Mechanics; Silicon Carbide Semiconductor Technologies; Advanced Memory and Neural Computing; Semiconductor materials and interfaces; Photonic Crystals and Applications; Electronic and Structural Properties of Oxides; Semiconductor Lasers and Optical Devices; Physics of Superconductivity and Magnetism; Organic Electronics and Photovoltaics; Acoustic Wave Resonator Technologies

2022 年 · 小类分区

同一本刊在不同小类下可能分属不同分区，投稿时按你所在的小类看。
小类学科分区
PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3 区

分区走势

只统计同一套口径的历史年度，跨口径不比较。
中科院（升级版）
2019
3 区
物理与天体物理
2020
3 区
物理与天体物理
2021
3 区
物理与天体物理
2022
3 区
物理与天体物理
2023
4 区
物理与天体物理
2025
3 区
物理与天体物理
中科院（基础版）：2018–2021 年发布的另一套中科院方案， 按 3 年平均 IF 分 13 个大类（升级版按期刊超越指数分 18 个大类）。 两套的分类法与区数都可能不同，不做换算。
2018
2 区
物理
3年均IF 2.496
2019
3 区
物理
3年均IF 2.665
2020
3 区
物理
3年均IF 2.804
2021
3 区
物理
3年均IF 2.918

影响因子

2015 年
2.265
2018 版
2016 年
2.667
2019 版
2017 年
2.555
2020 版
2018 年
2.772
2021 版
2019 年
3.086
2021 版
2020 年
2.895
2021 版
2025 年
2.500
2026 版
分区表版本3 年平均 IF总被引频次
2025 年 — 10,030
2021 年 2.918 20,820
2020 年 2.804 18,369
2019 年 2.665 16,753
2018 年 2.496 15,677
怎么读这张表：每个数字上方是 IF 本身所属的年份，下方是它由哪一版分区表公布。 例如「2020 年 / 2021 版」= 2021 版分区表公布的 2020 年度影响因子，不是「2021 年的 IF」。
数据范围：本站影响因子覆盖 2015–2020 与 2025 年度； 2021–2024 年缺失 —— 这几年没有可用的数据源，本站不做插值、也不拿旧年份的值顶替。 最早年份由分区表公布，2025 年度为 JCR 年度值。

收录与标记

Web of ScienceSCIE
综述期刊否
Open Access否
OA Journal Index否
其它名称： APPL PHYS EXPRESS（short） ·

2022 年 · 同类可替代期刊

依据小类重合度排序：小类越接近，投稿范围与审稿口味通常也越接近。
期刊ISSN分区备注
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 0021-8979 3 区 共享 1 个小类 加入对比
SOLID-STATE ELECTRONICS 0038-1101 3 区 共享 1 个小类 加入对比
JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS 0022-2291 3 区 共享 1 个小类 加入对比
CURRENT APPLIED PHYSICS 1567-1739 3 区 共享 1 个小类 加入对比
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 0022-0248 3 区 共享 1 个小类 加入对比
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 0272-4324 3 区 共享 1 个小类 加入对比
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 0022-3727 3 区 共享 1 个小类 加入对比
Micromachines 2072-666X 3 区 共享 1 个小类 加入对比