Applied Physics Express

APPL PHYS EXPRESS · ISSN 1882-0778 · EISSN 1882-0786 · 收录年度 2018–2026 · 共 8 年
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分区口径 最新（中科院 2025 + 新锐 2026 + JCR 2026） 2023 年中科院 2022 年中科院 2021 年中科院（升级版） 2020 年中科院（升级版） 2019 年中科院（升级版） 2018 年中科院（基础版）

分区结论

中科院分区表 2025 年后不再更新， 2026 年起只有新锐分区；JCR 分区每年更新。 下面同时给出三套口径 —— 中科院那一套是**特意保留**的，方便你对比。 两两之间口径不同、不可换算，本站不做合并。
中科院分区 2025 年 · 最后一年
3 区
大类：物理与天体物理
新锐分区 2026 年 · 当前口径
3 区
大类：物理与天体物理 序号 215
JCR 分区 2026 年度 · 1 个学科
Q3
PHYSICS, APPLIED
加入对比

投稿信息

投稿入口、版面费、审稿周期等信息来自公开渠道与期刊官网，仅供参考，请以期刊官方发布为准。
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版面费 USD 2485 （≈ $2485）
原始值：1985 GBP; 2205 EUR; 2485 USD
减免：无豁免政策
没有其他费用
是否 OA 是（完全开放获取）
审稿周期 一审约 30 天 · 投稿到录用约 42 天 · 投稿到出版约 6 周
平均 6 周（投稿到出版）
录用比例 —
出版商 Institute of Physics
出版国家 / 语言 United Kingdom / English
主题词：GaN-based semiconductor devices and materials; Semiconductor materials and devices; ZnO doping and properties; Ga2O3 and related materials; Semiconductor Quantum Structures and Devices; Photonic and Optical Devices; Magnetic properties of thin films; Advanced Fiber Laser Technologies; Quantum and electron transport phenomena; Graphene research and applications; Nanowire Synthesis and Applications; Thin-Film Transistor Technologies; Metamaterials and Metasurfaces Applications; Plasmonic and Surface Plasmon Research; Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design; Metal and Thin Film Mechanics; Silicon Carbide Semiconductor Technologies; Advanced Memory and Neural Computing; Semiconductor materials and interfaces; Photonic Crystals and Applications; Electronic and Structural Properties of Oxides; Semiconductor Lasers and Optical Devices; Physics of Superconductivity and Magnetism; Organic Electronics and Photovoltaics; Acoustic Wave Resonator Technologies

分区走势

只统计同一套口径的历史年度，跨口径不比较。
中科院（升级版）
2019
3 区
物理与天体物理
2020
3 区
物理与天体物理
2021
3 区
物理与天体物理
2022
3 区
物理与天体物理
2023
4 区
物理与天体物理
2025
3 区
物理与天体物理
中科院（基础版）：2018–2021 年发布的另一套中科院方案， 按 3 年平均 IF 分 13 个大类（升级版按期刊超越指数分 18 个大类）。 两套的分类法与区数都可能不同，不做换算。
2018
2 区
物理
3年均IF 2.496
2019
3 区
物理
3年均IF 2.665
2020
3 区
物理
3年均IF 2.804
2021
3 区
物理
3年均IF 2.918

影响因子

2015 年
2.265
2018 版
2016 年
2.667
2019 版
2017 年
2.555
2020 版
2018 年
2.772
2021 版
2019 年
3.086
2021 版
2020 年
2.895
2021 版
2025 年
2.500
2026 版
分区表版本3 年平均 IF总被引频次
2025 年 — 10,030
2021 年 2.918 20,820
2020 年 2.804 18,369
2019 年 2.665 16,753
2018 年 2.496 15,677
怎么读这张表：每个数字上方是 IF 本身所属的年份，下方是它由哪一版分区表公布。 例如「2020 年 / 2021 版」= 2021 版分区表公布的 2020 年度影响因子，不是「2021 年的 IF」。
数据范围：本站影响因子覆盖 2015–2020 与 2025 年度； 2021–2024 年缺失 —— 这几年没有可用的数据源，本站不做插值、也不拿旧年份的值顶替。 最早年份由分区表公布，2025 年度为 JCR 年度值。

JCR 分区明细（2026 年度）

JCR 分区是 Q1–Q4、按 WoS 学科分别发布的， 与中科院 1–4 区不是同一套口径，不可换算，因此单独列出、不做合并。 一本刊在不同学科下可能拿到不同分区 —— 下表逐学科给出。
WoS 学科 分区 总引用 索引库
PHYSICS, APPLIED Q3 10,030 SCIE
怎么用：投稿时按你所在的那个学科看分区，不要只看哪个 Q 数字好看。

收录与标记

Web of Science—
综述期刊否
Open Access否
OA Journal Index否
其它名称： APPL PHYS EXPRESS（short） ·

2025 年 · 同类可替代期刊

依据小类重合度排序：小类越接近，投稿范围与审稿口味通常也越接近。
2026 年口径没有学科分类数据， 此处依据 2025 年的学科分类计算。
期刊ISSN分区备注
Vacuum 0042-207X 3 区 共享 1 个小类 加入对比
Applied Surface Science Advances 2666-5239 3 区 共享 1 个小类 加入对比
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 0021-8979 3 区 共享 1 个小类 加入对比
Discover Nano 2731-9229 3 区 共享 1 个小类 加入对比
Micromachines 2072-666X 3 区 共享 1 个小类 加入对比
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 0272-4324 3 区 共享 1 个小类 加入对比
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS 0022-3727 3 区 共享 1 个小类 加入对比
Nanomaterials 2079-4991 3 区 共享 1 个小类 加入对比