JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B

J VAC SCI TECHNOL B · ISSN 2166-2746 · EISSN 2166-2754 · 收录年度 2019–2026 · 共 7 年
分区口径 最新(中科院 2025 + 新锐 2026 + JCR 2026) 2023 年中科院 2022 年中科院 2021 年中科院 2020 年中科院 2019 年中科院

分区结论

中科院分区表 2025 年后不再更新, 2026 年起只有新锐分区;JCR 分区每年更新。 下面同时给出三套口径 —— 中科院那一套是**特意保留**的,方便你对比。 两两之间口径不同、不可换算,本站不做合并。
中科院分区 2025 年 · 最后一年
4 区
大类:工程技术
新锐分区 2026 年 · 当前口径
4 区
大类:工程技术 序号 1133
JCR 分区 2026 年度 · 3 个学科
Q4
各学科:Q4 / Q4 / Q4
下方逐学科列出
加入对比

投稿信息

投稿入口、版面费、审稿周期等信息来自公开渠道与期刊官网,仅供参考,请以期刊官方发布为准。
版面费
是否 OA
审稿周期
录用比例
出版商
出版国家 / 语言 United States
主题词:Semiconductor materials and devices; Advancements in Photolithography Techniques; Integrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis; GaN-based semiconductor devices and materials; Nanofabrication and Lithography Techniques; ZnO doping and properties; Ion-surface interactions and analysis; Nanowire Synthesis and Applications; Semiconductor Quantum Structures and Devices; Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design; Metal and Thin Film Mechanics; Diamond and Carbon-based Materials Research; Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques; Ga2O3 and related materials; Graphene research and applications; Force Microscopy Techniques and Applications; Carbon Nanotubes in Composites; Plasma Diagnostics and Applications; Semiconductor materials and interfaces; Optical Coatings and Gratings; Thin-Film Transistor Technologies; Electronic and Structural Properties of Oxides; Advanced Surface Polishing Techniques; Copper Interconnects and Reliability; Photonic and Optical Devices

分区走势

只统计同一套口径的历史年度,跨口径不比较。
2019
4 区
工程技术
2020
4 区
工程技术
2021
4 区
工程技术
2022
4 区
工程技术
2023
4 区
工程技术
2025
4 区
工程技术

影响因子

2015 年
1.398
2018 版
2016 年
1.573
2019 版
2017 年
1.314
2020 版
2018 年
1.351
2021 版
2019 年
1.511
2021 版
2020 年
1.416
2021 版
2025 年
1.600
2026 版
分区表版本3 年平均 IF总被引频次
2025 年 7,077
2021 年 1.426 15,846
2020 年 1.392 15,832
2019 年 1.413 16,802
2018 年 1.428 18,081
怎么读这张表:每个数字上方是 IF 本身所属的年份,下方是它由哪一版分区表公布。 例如「2020 年 / 2021 版」= 2021 版分区表公布的 2020 年度影响因子,不是「2021 年的 IF」。
数据范围:本站影响因子覆盖 2015–20202025 年度; 2021–2024 年缺失 —— 这几年没有可用的数据源,本站不做插值、也不拿旧年份的值顶替。 最早年份由分区表公布,2025 年度为 JCR 年度值。

JCR 分区明细(2026 年度)

JCR 分区是 Q1–Q4、按 WoS 学科分别发布的, 与中科院 1–4 区不是同一套口径,不可换算,因此单独列出、不做合并。 一本刊在不同学科下可能拿到不同分区 —— 下表逐学科给出。
WoS 学科 分区 总引用 索引库
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q4 7,077 SCIE
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY Q4 7,077 SCIE
PHYSICS, APPLIED Q4 7,077 SCIE
怎么用:投稿时按你所在的那个学科看分区,不要只看哪个 Q 数字好看。 该刊在 3 个学科下被收录: Q4 / Q4 / Q4。

收录与标记

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综述期刊
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OA Journal Index
其它名称: J VAC SCI TECHNOL B(short) ·

2025 年 · 同类可替代期刊

依据小类重合度排序:小类越接近,投稿范围与审稿口味通常也越接近。
2026 年口径没有学科分类数据, 此处依据 2025 年的学科分类计算。
期刊ISSN分区备注
IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY 1536-125X 4 区 共享 3 个小类 加入对比
MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS 0946-7076 4 区 共享 3 个小类 加入对比
Journal of Nanoelectronics and Optoelectronics 1555-130X 4 区 共享 3 个小类 预警 加入对比
JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING 0960-1317 4 区 共享 3 个小类 加入对比
JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS 1057-7157 3 区 共享 3 个小类 加入对比
MICROELECTRONIC ENGINEERING 0167-9317 3 区 共享 3 个小类 加入对比
MICROELECTRONICS RELIABILITY 0026-2714 3 区 共享 3 个小类 加入对比
Micro and Nano Engineering 2590-0072 3 区 共享 3 个小类 加入对比